用Merials Studio 切面，切面的原则
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切面原则
(1)尽量保证化学计量比和bulk一样，比如：Al : O=2 : 3
(2)尽量保证表面能最小，也即让暴露的表面原子核实验一致。氧化物优先让氧暴露。
(3)是否添加基团给不饱和原子，要参考别人的文献，并且根据实验经验。
1>一般过渡金属化合物都不需要添加额外的基团
2>Al2O3,SiO2等可以可以考虑用-OH饱和
3>Si,GaN,InSe,ZnSe等共价晶体，半导体用赝H饱和
(4)尽量保证表面是对称的，不对称的表面要加IDIPOL和LDIPOL参数消除偶极。
今天的文章用Merials Studio 切面，切面的原则分享到此就结束了，感谢您的阅读。
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